用于晶圆边缘曝光的光栅
专利权的终止
摘要

本实用新型提供了一种用于晶圆边缘曝光的光栅。采用现有的光栅结构进行晶圆边缘曝光,存在曝光时间较长,产量低的问题。本实用新型的光栅具有一透光的光栅图形,该光栅图形是一扇环,其侧边由两条同心圆弧构成。在晶圆边缘曝光过程中,所述光栅图形曲率半径较大的一条圆弧在晶圆上的投影落在晶圆的边缘上,另一条圆弧的投影落在晶圆边缘的内侧,光栅图形的长度为3~8毫米。采用本实用新型的光栅,在不改变其他参数且确保晶圆边缘曝光制程达到能量和宽度要求的同时,可有效缩短曝光时间,从而提高产量。

基本信息
专利标题 :
用于晶圆边缘曝光的光栅
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720070546.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-06-01
授权号 :
CN201083962Y
授权日 :
2008-07-09
发明人 :
李德君
申请人 :
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请人地址 :
201203上海市张江路18号
代理机构 :
上海智信专利代理有限公司
代理人 :
王洁
优先权 :
CN200720070546.X
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  G02B5/18  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2017-07-25 :
专利权的终止
专利权有效期届满号牌文件类型代码 : 1611
号牌文件序号 : 101736765039
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL200720070546X
申请日 : 20070601
授权公告日 : 20080709
终止日期 : 无
2013-04-17 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101568006955
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL200720070546X
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
变更后权利人 : 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 201203 上海市张江路18号
变更后权利人 : 100176 北京市经济技术开发区文昌大道18号
登记生效日 : 20130326
2008-07-09 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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