边缘曝光工具及使用边缘曝光工具的方法
公开
摘要
一边缘曝光工具及使用边缘曝光工具的方法，边缘曝光工具可包括透镜调整装置，透镜调整装置能够自动化地调整边缘曝光透镜的多个参数以解决边缘曝光工具的操作参数的变化。在一些实施方式中，边缘曝光工具亦可包括控制器，控制器使用技术例如大数据探勘、机器学习、与类神经网络处理，能够决定用于边缘曝光透镜的边缘调整参数以及用于边缘曝光工具的曝光控制参数。透镜调整装置与控制器能够减少及/或防止边缘曝光工具的效能偏离容许值之外，可维持边缘曝光工具的操作效能并减少晶圆刮伤的可能性，并可减少可能由边缘曝光透镜的清洁与校准所引起的边缘曝光工具的停机时间。
基本信息
专利标题 ：
边缘曝光工具及使用边缘曝光工具的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114460813A
申请号 ：
CN202110286051.5
公开（公告）日 ：
2022-05-10
申请日 ：
2021-03-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
吴泳铤陈裕凯
申请人 ：
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN202110286051.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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