本发明实施例公开了一种边缘曝光装置、方法及光刻设备。装置包括预对准模块、边缘曝光模块、运动模块、控制模块及固定模块；运动模块包括X向运动机构、Y向运动机构、Z向升降机构及旋转台，旋转台用于承载硅片；固定模块包括交接台，交接台用于在预对准模块获取硅片的位置误差后承载硅片，控制模块用于根据位置误差控制运动模块调整旋转台的位置，以实现硅片的预对准；控制模块还用于在预对准后控制运动模块从交接台获取硅片，并移动至边缘曝光模块位置处进行边缘曝光。本发明实施例的技术方案，既能同时实现硅片的预对准和边缘曝光功能，又能减少控制对象，具有结构简单紧凑、成本低、易于模块集成调试等优点。