曝光方法和工具

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

一种向基板上形成规则重复图案的方法，包括步骤：将抗蚀剂涂敷在待处理基板的表面上；在所涂敷的抗蚀剂上压印通过将其暴露于紫外(UV)光束而形成的图案，致使该紫外光穿过描绘该图案的合适掩模并随后穿过聚焦透镜到该抗蚀剂上，从而引起该抗蚀剂中的化学变化，其中该化学变化使得该抗蚀剂更多或更少溶解于合适的显影溶液；该压印步骤实施如下：在重复的一系列离散曝光步骤中，使用仅代表基板总面积的小区域且相对于该光束和透镜保持静止的掩模，并在每个步骤使用紫外辐射的单一短脉冲来照射该掩模，该辐射脉冲在该基板上具有低于烧蚀该抗蚀剂的阈值的能量密度；以及通过沿着与将形成于该基板上的结构的一条轴平行的方向移动该基板，并在该基板的移动距离等效于该基板上重复图案的完整周期数的时刻激活该脉冲掩模照射光源，由此在基板表面

基本信息

专利标题：

曝光方法和工具

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101167018A

申请号：

CN200680009658.2

公开（公告）日：

2008-04-23

申请日：

2006-01-30

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

N·赛克斯R·阿洛特

申请人：

奥尔利康巴尔策斯涂料（英国）有限公司

申请人地址：

英国米尔顿凯恩斯

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

刘杰

优先权：

CN200680009658.2

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2011-01-05 ：

发明专利申请公布后的视为撤回

号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101058458279
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2006800096582
公开日 : 20080423

2008-06-18 ：

实质审查的生效

2008-04-23 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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