一种晶圆曝光机
授权
摘要

本实用新型属于晶圆生产设备技术领域,尤其为一种晶圆曝光机,包括支架和箱体,所述支架的底端安装在所述箱体上表面的左侧,所述支架另一端上安装有灯罩,所述灯罩的下端安装有曝光管,所述箱体上表面的右侧设置有转盘,所述箱体的首端设置有控制面板,所述箱体的右侧设置有料出口,所述灯罩的内部安装有灯板,且所述灯板下表面的中间位置固定有灯泡,所述曝光管的内部设置有滤波器和凸透镜,所述滤波器设置在所述凸透镜的上方,所述曝光管的底部安装有镜管,所述转盘上设置有孔洞,且所述孔洞有三个。本实用新型通过可拆卸曝光管的更换以达到焦点的变更,进而实现不同厚度晶圆的曝光。

基本信息
专利标题 :
一种晶圆曝光机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921744596.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-17
授权号 :
CN210721014U
授权日 :
2020-06-09
发明人 :
何海洋胡健峰彭强
申请人 :
无锡市查奥微电子科技有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市新吴区菱湖大道111号无锡软件园天鹅座D座562室
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201921744596.0
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-06-09 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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