曝光装置

授权

摘要

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种曝光装置。所述曝光装置包括：支撑台，用于承载光罩；检测组件，用于检测所述光罩表面的异物信息；清洁组件，所述清洁组件连接所述检测组件，用于根据所述检测组件获取的所述异物信息定向除去所述光罩表面的异物。本实用新型可以提高所述光罩检测的效率以及准确率；同时，避免了将光罩取出、在曝光机台外部进行清洁的繁琐操作以及二次污染的风险，提高了光罩清洁的效率，从而相应提高了曝光装置的机台产能。

基本信息

专利标题：

曝光装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922115954.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-11-29

授权号：

CN210835584U

授权日：

2020-06-23

发明人：

许文豪

申请人：

长鑫存储技术有限公司

申请人地址：

安徽省合肥市蜀山区经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室

代理机构：

上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

孙佳胤

优先权：

CN201922115954.8

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20