一种曝光机真空吸盘
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种曝光机真空吸盘,包括外壳和吸盘腔,所述吸盘腔位于外壳内腔,所述外壳内部两侧固定连接有支撑柱,所述支撑柱另一端固定连接有第一弹簧柱,且支撑柱通过第一弹簧柱与吸盘腔外壁两侧相连,所述外壳内侧下方通过第二弹簧柱与吸盘腔外壁下方相连,所述吸盘腔内壁两侧开设有卡口,所述卡口之间可拆卸连接有过滤装置,所述过滤装置包括环形架、第一支撑架和第二支撑架,本实用新型涉及真空吸盘技术领域。该曝光机真空吸盘,可以防止曝光机真空吸盘的压缩变形的问题,延长曝光机真空吸盘的使用寿命,同时可以有效防止曝光机真空吸盘在工作时杂物进入到真空吸盘内造成吸附能力减弱的问题。
基本信息
专利标题 :
一种曝光机真空吸盘
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921362316.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-21
授权号 :
CN210323766U
授权日 :
2020-04-14
发明人 :
欧阳朝辉
申请人 :
深圳市科尔曼科技有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市坪山区坪山街道和平社区兰金四路19号华瀚科技工业园1号厂房303
代理机构 :
北京科家知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
陈娟
优先权 :
CN201921362316.X
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-07-30 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20190821
授权公告日 : 20200414
终止日期 : 20200821
申请日 : 20190821
授权公告日 : 20200414
终止日期 : 20200821
2020-04-14 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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