一种铝基板真空曝光装置的结构
授权
摘要
本实用新型涉及一种铝基板真空曝光装置的结构，所述盖板底板的下表面设置有垫块，所述垫块的下表面设置有沉槽，所述沉槽的长度与所述垫块的长度相等，所述沉槽水平贯穿垫块的前后表面，所述垫块压在所述待曝光铝基板的背面将所述待曝光铝基板和菲林片压紧，抽真空时，底板在大气压力下弹性变形压向真空腔内，所述垫块下压将所述待曝光铝基板与菲林片之间的空气挤出，同时垫块与所述待曝光铝基板之间的空气经由沉槽被有效地抽走。
基本信息
专利标题 ：
一种铝基板真空曝光装置的结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020173158.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-15
授权号 ：
CN211454232U
授权日 ：
2020-09-08
发明人 ：
江东红曹克铎吴志峰
申请人 ：
福建利德宝电子有限公司
申请人地址 ：
福建省漳州市漳州台商投资区角美镇龙池工业园
代理机构 ：
北京云科知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
张飙
优先权 ：
CN202020173158.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H05K1/05 H05K3/06
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-09-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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