一种曝光机的基板支撑结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种曝光机的基板支撑结构：包括底座、固定单元、紧固单元、支撑架和滑动轨道；底座：所述底座为长方体，所述底座的上表面四角分别固定有四个定位筒，所述定位筒为上部开口的筒状结，所述定位筒的内部活动连接活动柱的下端，所述活动柱的上端固定连接基板的下表面四角，所述活动柱的外表面套接有弹簧，所述弹簧的上端固定连接基板的下表面，所述弹簧的下端固定连接定位筒的上表面，所述支撑架有两个，两个支撑架的下表面固定于底座的上表面中心且前后平行安装，所述底座的前侧面中心固定连接把手架的下部后侧面，该曝光机的基板支撑结构，能够根据曝光物质的大小来上下移动，机构简单，操作简单。
基本信息
专利标题 ：
一种曝光机的基板支撑结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922190423.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-10
授权号 ：
CN211603838U
授权日 ：
2020-09-29
发明人 ：
王群冯梦飞孙行
申请人 ：
江苏九迪激光装备科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省徐州市邳州市岔河镇岔河电子产业园江苏九迪激光装备科技有限公司
代理机构 ：
北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李宏伟
优先权 ：
CN201922190423.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-09-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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