本实用新型涉及液晶显示技术领域，公开了一种基板曝光装置。所述基板曝光装置包括载台、管路、真空组件、风机及加湿组件，载台能够承载基板，载台内开设有过气通道，管路的一端与过气通道相连通，真空组件与管路的另一端相连通，真空组件能使过气通道呈负压状态，以将基板吸附在载台上，风机与管路的另一端相连通，加湿组件能向管路内通入雾化液体，以使风机向过气通道吹入预设湿度的气体。本实用新型的基板曝光装置，曝光结束后，加湿组件和风机配合可以向过气通道内通入预设湿度的气体，实现基板和载台之间的破真空，且基板下表面处于预设湿度的气体氛围中，使基板产生的静电量控制在一定值以下，从而避免基板在离开载台的过程发生静电击伤。