一种紫外光刻曝光机基板清洁装置
授权
摘要

本实用新型提供了一种紫外光刻曝光机基板清洁装置,属于紫外曝光机技术领域。调节机构固定在支架的顶面,转动机构包括伺服电机、第二固定板、第二螺纹杆和第三螺纹杆,伺服电机安装在调节机构的顶面,第二固定板固定在伺服电机的输出轴的端部,第二固定板的顶面对称开设有两个第二滑槽,第二螺纹杆和第三螺纹杆分别转动连接在第二滑槽的内部,第二螺纹杆和第三螺纹杆固定连接,第二螺纹杆和第三螺纹杆的外表面分别螺接有夹紧块,第二固定板的内部开设有第二空腔,第二空腔的底部开设有通孔,第二固定板的底部安装有毛刷,第二空腔的顶面连通有连接管。本实用新型通过转动方式对紫外光刻曝光机基板进行清洗,提高了清洗的效率。

基本信息
专利标题 :
一种紫外光刻曝光机基板清洁装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922302021.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-19
授权号 :
CN211086919U
授权日 :
2020-07-24
发明人 :
华平壤姜城
申请人 :
天津通软信息技术有限公司
申请人地址 :
天津市滨海新区经济技术开发区洞庭路131号德福斯新天地科技大厦A505
代理机构 :
北京沁优知识产权代理有限公司
代理人 :
蔡岩岩
优先权 :
CN201922302021.X
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-07-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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