曝光机
授权
摘要

本申请公开了一种曝光机。该曝光机包括:承载台,承载台用于承载基板;升降杆,升降杆与承载台间隔设置;反射层,反射层设置在承载台的第一侧,且反射层设置在升降杆的第二侧,其中,反射层对光的反射率小于第一侧对光的反射率,且反射层对光的反射率小于第二侧对光的反射率,第一侧为承载台与掩膜版相对设置的一侧,第二侧为升降杆与掩膜版相对设置的一侧。本申请通过在承载台与掩膜版相对的第一侧,以及升降杆与掩膜版相对的第二侧设置具有较小反射率的反射层,可以降低承载台、升降杆以及二者之间间隙的光反射差异,提高基板的曝光均匀性。

基本信息
专利标题 :
曝光机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111061131A
申请号 :
CN201911296532.3
公开(公告)日 :
2020-04-24
申请日 :
2019-12-16
授权号 :
CN111061131B
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
袁继旺
申请人 :
TCL华星光电技术有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
代理机构 :
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 :
张晓薇
优先权 :
CN201911296532.3
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-05 :
授权
2020-05-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20191216
2020-04-24 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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