曝光机
授权
摘要

本实用新型提供了一种曝光机,包括上箱体、下箱体、上透光板、下透光板、顶杆、驱动组件、连接轴以及偏转台。该偏转台、驱动组件以及顶杆均设置在下箱体内,不仅使得曝光机结构紧凑,占地面积得到有效控制,还使得各构件的运动更加稳定、准确而有效;并且,在曝光机盖合过程中,顶杆可首先带动第二连接部、第一连接部及上箱体绕着连接轴反向转动,待上透光板转动至与下透光板平行的位置,顶杆继续下行,则可带动整个上箱体、第一连接部及第二连接部沿第二方向向下运动,也即,在此过程中上透光板和下透光板沿第二方向相互靠近,从而有效避免了常规的单边翻开式曝光机存在的剪刀角问题,杜绝了在盖合过程中可能出现的感光材料外溢的现象。

基本信息
专利标题 :
曝光机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921286716.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-08
授权号 :
CN210721013U
授权日 :
2020-06-09
发明人 :
吴雪平陈远来童彪
申请人 :
深圳市安铂柔印科技有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市龙华区大浪街道大浪社区同富邨工业区21号2层
代理机构 :
深圳中细软知识产权代理有限公司
代理人 :
阎昱辰
优先权 :
CN201921286716.7
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-06-09 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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