曝光数据曝光位置的定位系统
授权
摘要
本实用新型公开了曝光数据曝光位置的定位系统，包括工作台、PLC控制器、驱动组件、带有气动夹块的移动基板、曝光头、计算机设备，驱动组件包括用于驱动移动基板沿着Y轴方向移动的Y轴伺服模组、用于驱动曝光头沿着X轴方向移动的X轴伺服模组，曝光头、气动夹块、Y轴伺服模组和X轴伺服模组均与PLC控制器通过电缆与PLC控制器的输出接口连接，计算机设备内部安装有网版参数输入系统，计算机设备通过电缆与PLC控制器的输入接口连接，本实用新型能精准的确定曝光机在印刷网版上所要曝光图案的位置，实用性能较强，且效率显著提高。
基本信息
专利标题 ：
曝光数据曝光位置的定位系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020384947.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-24
授权号 ：
CN212846348U
授权日 ：
2021-03-30
发明人 ：
郑军明
申请人 ：
田菱智能科技（昆山）有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市千灯镇少卿东路269号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020384947.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F9/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-03-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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