本申请公开了一种曝光机、挡板位置分析方法及装置。曝光机包括：玻璃基板；挡板，与所述玻璃基板相对设置；掩膜版，设于所述挡板和所述基板之间，所述掩膜版包括曝光区、非曝光区以及标尺，所述标尺包括尺身和设于所述尺身的刻度，所述刻度的刻度参考线与所述曝光区和所述非曝光区的分界线重合，所述刻度的测量范围大于所述挡板的衍射区域的尺寸，所述挡板用于遮挡所述非曝光区，且所述挡板的边缘与所述分界线重合。本申请实施例中设置标尺对挡板位置精度进行监控，如果发现异常可以及时修正，避免不良品产出后报废。