本实用新型公开了一种位置检测机构及双台面曝光系统，所述位置检测机构包括至少两个光栅尺和分别对应于所述光栅尺的读数头，以及光栅尺转换单元，相邻的所述光栅尺拼接，所述读数头用于读取对应光栅尺的数据，读数头读取的数据传输至所述光栅尺转换单元。所述双工位曝光系统包括第一台面、第二台面、第一对位检测机构、第二对位检测机构和光学机构，所述第一对位检测机构和第二对位检测机构位于光学机构的两侧，对应于所述第一台面和所述第二台面分别设置位置检测机构。所述位置检测机构，利用光栅尺的拼接满足长行程的需求，并利用长行程合理配置对位检测机构和光学机构，使得一个台面对位检测时，不影响另一台面的曝光操作，两者可以同时进行，互不干扰。