一种直写式曝光机用台面清洁结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种直写式曝光机用台面清洁结构,包括曝光机本体、风机管道和电动机,所述曝光机本体的内侧安装有玻璃台面,且玻璃台面的上方设置有清洁辊,所述清洁辊的外侧连接有防护块,所述清洁辊的表面预留有吸尘孔,且清洁辊的两端通过进气管和连接管相连,所述进气管的外侧套设有齿轮,且齿轮下方的曝光机本体上固定有固定板,所述连接管的外侧套设有套块,所述电动机安装在曝光机本体的外侧,且电动机的端头处连接有电机轴。该直写式曝光机用台面清洁结构,通过粘尘贴以及吸尘的方式对台面上灰尘进行清理,能够更好的提升清洁效率,也无需对粘尘贴频繁更换,并且设有对台面进行保护的机构,能够避免对台面造成损坏。
基本信息
专利标题 :
一种直写式曝光机用台面清洁结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922182846.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-09
授权号 :
CN211454230U
授权日 :
2020-09-08
发明人 :
肖磊
申请人 :
上海探跃半导体设备有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区宣桥镇宣秋路210号E幢1楼北侧101室
代理机构 :
北京华识知识产权代理有限公司
代理人 :
乔浩刚
优先权 :
CN201922182846.2
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-09-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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