一种用于双台面激光直写曝光机的延展吸盘
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于双台面激光直写曝光机的延展吸盘，包括上板和设置在上板下方的下板。所述上板的底部开设有开口向下的空腔，空腔的顶部开设有若干真空吸附孔。所述下板包括水平板和设置在水平板端部下方的竖直板。所述水平板的顶部与空腔围成一真空吸附腔。所述下板上开设有与真空吸附腔相连通的气体通道一。本实用新型能够与现有的双台面曝光直写曝光机吸盘配合使用，满足大尺寸PCB板的生产要求，具有拆装简单、易于调试、适用范围广等特点。
基本信息
专利标题 ：
一种用于双台面激光直写曝光机的延展吸盘
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020561523.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-14
授权号 ：
CN211698588U
授权日 ：
2020-10-16
发明人 ：
陈波
申请人 ：
合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市高新区创新大道2800号创新产业园二期F3楼11层
代理机构 ：
合肥天明专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
奚华保
优先权 ：
CN202020561523.4
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-10-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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