一种双台面直写式曝光机
授权
摘要
本实用新型提供了一种双台面直写式曝光机，所述直写式曝光机包括底座、设置于底座上的龙门机构、顺序设置于龙门机构的对位机构和曝光机构，设置于所述底座平行排列的沿扫描方向y方向延伸的导轨，分别设置于所述导轨上的第一工作台运动和第二工作台，所述第一工作台和所述第二工作台均包括置于所述导轨上的z轴运动机构、连接于所述z轴运动机构的基板台面，z轴运动机构带动基板台面在z轴方向上下滑动，所述曝光机构包括固定于龙门机构的x方向排列的多个镜头。曝光机构采用固定镜头的方式，单条带完成曝光操作，无需再通过移动曝光机构完成曝光，曝光机构稳定设置，提高曝光精度。
基本信息
专利标题 ：
一种双台面直写式曝光机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921775702.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-22
授权号 ：
CN211741826U
授权日 ：
2020-10-23
发明人 ：
章卫平刘栋蔡瑞朱道龙李伟成张雷
申请人 ：
苏州源卓光电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区汀兰巷192号C5幢102室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921775702.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-10-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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