一种缩短曝光时间的直写光刻装置

授权

摘要

本实用新型公开了一种缩短曝光时间的直写光刻装置，包括装置底座、透镜面板和平面齿轮，所述装置底座的正上方连接有第一支撑杆，且第一支撑杆的左右两侧设置有投影镜头，所述投影镜头的正上方设置有波长分束器，所述透镜面板的外侧连接有齿牙条，且齿牙条的底部连接有调试箱体，所述调试箱体的表面连接有旋转块，且调试箱体的一侧设置有照明灯，所述照明灯的外侧连接有设备外壳，且设备外壳的外侧铰接固定有第二支撑杆，所述平面齿轮安装在设备外壳的正下方。该缩短曝光时间的直写光刻装置，采用齿牙条与平面齿轮，通过平面齿轮带动齿牙条进行垂直升降，便于根据装置使用需求调节投影镜头与镜片之间的距离。

基本信息

专利标题：

一种缩短曝光时间的直写光刻装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922134967.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-12-03

授权号：

CN210954610U

授权日：

2020-07-07

发明人：

王伟

申请人：

常州弘盛达电子设备有限公司

申请人地址：

江苏省常州市新北区乐山路58号

代理机构：

深圳正和天下专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

杨波

优先权：

CN201922134967.X

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20