一种可以缩短曝光时间的激光直写光刻设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种可以缩短曝光时间的激光直写光刻设备,涉及激光直写光刻设备技术领域,包括底座、底板、支架、曝光机构、放置槽、伸缩杆、推块、转轴、第二丝杆、第一齿轮、安装块和触点等。本实用新型通过曝光机构和第一丝杆配合,当其中一个工作台上的曝光基板进行曝光工作的同时,可对于另一个工作台上的曝光基板进行更换工作,使得曝光工作和更换工作同步进行并且可以循环工作,缩短了曝光时间,保证了装置的工作效率,曝光机构和其中一个触点进行接触,使得双向电机停止运动,从而对于曝光机构的位置进行固定,工作台的位置随之固定,从而自动完成曝光机构和工作台的定位工作,保证了装置工作时的稳定性。
基本信息
专利标题 :
一种可以缩短曝光时间的激光直写光刻设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123417358.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-31
授权号 :
CN216670500U
授权日 :
2022-06-03
发明人 :
杨彬
申请人 :
珠海驰铭精密电路有限公司
申请人地址 :
广东省珠海市斗门区井岸镇新青工业区新青二路11号3号厂房4楼
代理机构 :
北京华际知识产权代理有限公司
代理人 :
吕青霜
优先权 :
CN202123417358.9
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-03 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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