一种用于双台面激光直写曝光机的真空吸附控制系统
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于双台面激光直写曝光机的真空吸附控制系统，包括鼓风机、控制电路、自锁式按钮KEY1、自锁式按钮KEY2、电磁阀一和电磁阀二。控制电路包括交流接触器、热继电器和继电器。鼓风机的出气口分别与电磁阀一的进气口、电磁阀二的进气口相连，电磁阀一的出气口接曝光A台面的进气口，电磁阀二的出气口接曝光B台面的进气口。本实用新型不仅可以在双台面激光直写曝光机工作时打开鼓风机，在曝光机不工作时切断鼓风机电源，实现节能减排，还可以通过热继电器保护鼓风机，在鼓风机过载或过流时及时切断电源并报警，防止因鼓风机过热或电流过大而导致鼓风机烧坏，从而延长鼓风机的使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种用于双台面激光直写曝光机的真空吸附控制系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020035807.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-08
授权号 ：
CN211318990U
授权日 ：
2020-08-21
发明人 ：
张浩为卫国魏云飞
申请人 ：
合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市高新区创新大道2800号创新产业园二期F3楼11层
代理机构 ：
合肥天明专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
奚华保
优先权 ：
CN202020035807.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-08-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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