超大台面散光曝光机

专利权的终止

摘要

本实用新型公开了一种超大台面散光曝光机，包括台框、UV灯源及与UV灯源相配合的第一反射罩、第二反射罩、第三反射罩，其特征在于：还包括减速马达、线形轴承、皮带，所述减速马达通过皮带带动线形轴承转动，所述台框由减速马达通过皮带驱动，所述台框上装有两块22″×24″的PCB板，在该台框上设有多个真空吸嘴及真空泵。由于采用了上述结构，故本实用新型具有结构简单、产量高的特点。

基本信息

专利标题：

超大台面散光曝光机

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200720054212.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2007-07-17

授权号：

CN201066434Y

授权日：

2008-05-28

发明人：

夏卫平

申请人：

志圣科技(广州)有限公司

申请人地址：

510850广东省广州市花都区狮岭镇第二工业区利和路6号

代理机构：

广州市南锋专利事务所有限公司

代理人：

李永庆

优先权：

CN200720054212.3

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2015-09-02 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101624001633
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2007200542123
申请日 : 20070717
授权公告日 : 20080528
终止日期 : 20140717

2008-05-28 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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