一种双台面激光直写曝光机的对位方法

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摘要

本发明公开了一种双台面激光直写曝光机的对位方法，本方法改变了视觉标定点的设置位置，使视觉标定点能够沿X方向移动，从而在标定视觉单元的位置时，视觉单元不用移动，而且标定后也视觉单元不用移动到能够看到mark点的范围进行对位，降低了运动的累计误差，提高了对位的精度；因为视觉单元的位置标定时是通过视觉标定点移动实现的，而曝光引擎的移动精度本身就很高，因而视觉单元的移动机构不再需要很高的精度，降低了视觉单元控制的难度。

基本信息

专利标题：

一种双台面激光直写曝光机的对位方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN112731772A

申请号：

CN202011616080.5

公开（公告）日：

2021-04-30

申请日：

2020-12-30

授权号：

CN112731772B

授权日：

2022-04-12

发明人：

汪孝军梅文辉王建新李贵鸿

申请人：

中山新诺科技股份有限公司

申请人地址：

广东省中山市火炬开发区明珠路3号之一

代理机构：

中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙)

代理人：

唐飚

优先权：

CN202011616080.5

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 G03F9/00 H05K3/06