一种单面曝光机的对位装置
专利权的终止
摘要

本实用新型是有关于一种单面曝光机的对位装置,包括一定位基板、一对位板及一升降机构;定位基板包括至少一横向移动机构及两组相互平行的纵向移动机构;对位板设在定位基板上方,利用横向移动机构及纵向移动机构加以支撑;升降机构包括一升降体、一止回转中心轴、一动力源及多支升降杆,止回转中心轴通过升降体连结定位基板及对位板,并定位上述三者于垂直向的位置。该单面曝光机的对位装置可以调动一曝光物至曝光定位,且具有控制系统简单化的功效,借由这样的装置能提高对位的精准度以及简化维修的问题。

基本信息
专利标题 :
一种单面曝光机的对位装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820003789.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-02-19
授权号 :
CN201170837Y
授权日 :
2008-12-24
发明人 :
张鸿明
申请人 :
川宝科技股份有限公司
申请人地址 :
中国台湾桃园县
代理机构 :
北京中原华和知识产权代理有限责任公司
代理人 :
寿宁
优先权 :
CN200820003789.6
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  H05K3/00  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2018-03-16 :
专利权的终止
专利权有效期届满IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20080219
授权公告日 : 20081224
2008-12-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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