一种激光曝光系统
授权
摘要
本实用新型涉及一种曝光系统，其包括光源，其还包括激光选束模块、光束转换模块、光束整形模块、阵列偏转模块和控制系统，所述控制系统控制所述激光选束模块、所述光束转换模块、光束整形模块和阵列偏转模块，所述光源发出的光线通过激光选束模块形成一维线阵光束，所述一维线阵光束通过所述光束转换模块形成二维面阵列光束，所述二维面阵光束通过所述光束整形模块和所述阵列偏转模块聚焦至待曝光基板的相应位置。本发明通过光束转换模块、光束整形模块、阵列偏转模块实现了从点光源到二维光束的转换，可以通过控制系统对相应部件的控制实现大范围的曝光，提高曝光效率。
基本信息
专利标题 ：
一种激光曝光系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021189346.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-24
授权号 ：
CN212623566U
授权日 ：
2021-02-26
发明人 ：
胥涛棚李伟成张雷
申请人 ：
苏州源卓光电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区汀兰巷192号C5幢102室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021189346.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-02-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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