一种激光曝光的制程装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种激光曝光的制程装置，其特征在于：包括检测传感器、放板机、移栽机、LDI曝光主机、清洁机、翻板机和收板机；所述放板机依次连接清洁机、LDI曝光主机、移栽机、翻板机、清洁机、LDI曝光主机、移栽机和收板机；利用高性能的半导体激光器和DMD镜片，搭配出色的光学系统，用图像电子资料文件代替实物菲林工具，将文件中的图形线路通过镭射激光直接成像技术对干膜进行感光聚合，形成不溶于稀碱溶液的体型大分子结构，且采用LDI光源的解像度能力以及使用寿命高于LED灯源，LDI曝光机比传统曝光机生产效率提高25.3％，整体报废率下降0.4％，一次合格率提高4％，三项主要因曝光导致的报废明显降低，得到有效控制。
基本信息
专利标题 ：
一种激光曝光的制程装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020845185.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-20
授权号 ：
CN211928380U
授权日 ：
2020-11-13
发明人 ：
张悦悦鲜其敏
申请人 ：
领跃电子科技（珠海）有限公司
申请人地址 ：
广东省珠海市斗门区井岸镇新青二路13号(一期厂房)
代理机构 ：
珠海飞拓知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
陈李青
优先权 ：
CN202020845185.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-11-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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