气体激光装置以及曝光系统
授权
摘要
本申请实施例提供一种气体激光装置以及曝光系统，包括：腔室、第1部件、第2部件、光学元件、第1固定件和第2固定件；第1固定件使所述第1部件、所述第2部件以及所述光学元件一起紧固并且固定在输出部；所述第2部件具有供所述第1部件的一部分露出的切口部，所述第2固定件从所述切口部对所述第1部件进行紧固并固定在所述输出部。由此，施加给光学元件的应力较小，从而抑制在光学元件上的变形，可以改善通过光学元件的激光的波面。
基本信息
专利标题 ：
气体激光装置以及曝光系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021761396.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-21
授权号 ：
CN212751392U
授权日 ：
2021-03-19
发明人 ：
手井大辅
申请人 ：
极光先进雷射株式会社
申请人地址 ：
日本栃木县
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
田勇
优先权 ：
CN202021761396.9
主分类号 ：
H01S3/034
IPC分类号 ：
H01S3/034 H01S3/03 G03F7/20
法律状态
2021-03-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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