冷却系统、准分子激光器以及曝光设备
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种冷却系统、准分子激光器以及曝光设备,该冷却系统包括气源和气体回收装置,气源用于向准分子激光器的线路压窄模块的内部供给氦气,以使线路压窄模块的内部维持在预设温度,气体回收装置用于回收且处理线路压窄模块的内部的氦气,气体回收装置与气源连通,以便将被处理后的氦气输送至气源。准分子激光器启动后,激光进入到线路压窄模块内,进入到线路压窄模块内的激光依次经过线路压窄模块内的光栅和棱镜,气源的氦气对光栅以及棱镜进行吹扫,吹扫后的氦气进入到气体回收装置,气体回收装置对氦气进行处理,并且被处理后的氦气再次输送至气源,实现了氦气的重复利用,减少了氦气的使用量,使得产品的制造成本得到了有效地降低。
基本信息
专利标题 :
冷却系统、准分子激光器以及曝光设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114520456A
申请号 :
CN202011308538.0
公开(公告)日 :
2022-05-20
申请日 :
2020-11-19
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
金成昱金帅炯梁贤石贺晓彬李亭亭刘金彪杨涛
申请人 :
中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司
申请人地址 :
北京市朝阳区北土城西路3号
代理机构 :
北京辰权知识产权代理有限公司
代理人 :
李晶
优先权 :
CN202011308538.0
主分类号 :
H01S3/041
IPC分类号 :
H01S3/041 H01S3/04 G03F7/20
法律状态
2022-06-07 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01S 3/041
申请日 : 20201119
申请日 : 20201119
2022-05-20 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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