准分子激光器剂量稳定控制系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种准分子激光器剂量稳定控制系统，其中，控制系统包括：高压放电组件，用于接收触发信号，并根据触发信号及预设高压设定值，产生脉冲高压；激光器，其内充有工作气体，工作气体用于接收脉冲高压，并产生激光脉冲；激光参数测量组件，用于检测激光脉冲的能量值，并将激光脉冲输出至外部；能量稳定控制器，与高压放电组件电性连接，能量稳定控制器用于采集能量值；本实用新型通过激光参数测量组件检测脉冲激光的能量值，当能量值偏移预设能量值时通过能量稳定控制器控制高压放电组件的放电高压，进而控制激光脉冲的能量值与预设能量值接近或相等，以防止每个序列的前几个激光脉冲严重超调，保证了每个激光脉冲的稳定性。
基本信息
专利标题 ：
准分子激光器剂量稳定控制系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920428832.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-03-29
授权号 ：
CN209860345U
授权日 ：
2019-12-27
发明人 ：
冯泽斌韩晓泉江锐周翊赵江山张华张琴王香廖密杨军红
申请人 ：
北京科益虹源光电技术有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区经济技术开发区经海四路156号10号楼二层201
代理机构 ：
深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
曹卫良
优先权 ：
CN201920428832.1
主分类号 ：
H01S3/13
IPC分类号 ：
H01S3/13 H01S3/134
法律状态
2019-12-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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