本实用新型提供了一种曝光设备，其包括曝光机，特别地，还包括遮光装置，该遮光装置包括：连接元件，可转动地安装在曝光机的对位镜头上；遮光元件，固定连接于上述连接元件；其中，遮光元件可选择地遮盖母版上的测量窗口。具体地，根据本实用新型的遮光元件在曝光机对感光干膜进行曝光时遮盖母版上的测量窗口。紫外光无法穿过本遮光装置而照射到与测量窗口相对的感光干膜上，从而使感光干膜区不会曝光，这样在随后的蚀刻显影过程中，与该部分感光干膜区对应的ITO薄膜就会被蚀刻掉，而不会形成会对封排气密性造成影响的多余的ITO图形。