曝光设备
实质审查的生效
摘要

本申请公开了一种曝光设备,属于视觉技术领域。该曝光设备包括第一偏振分束镜、第三激光器、第一曝光组件、第二曝光组件和全息衍射基板。由于全息衍射基板位于第一曝光组件的出光侧和第二曝光组件的出光侧的交叠区域,所以当第一曝光组件和第二曝光组件可以同时向全息衍射基板的第一表面投射S偏振光,这两个不同光路的S偏振光可以在全息衍射基板的第一表面发生干涉,并可以在全息衍射基板的第一表面的感光膜上记录第三激光器投射的激光的波长、振幅和相位等信息,从而得到全息衍射光栅。该曝光设备组成简单,得到全息衍射光栅的过程简单高效。

基本信息
专利标题 :
曝光设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114326126A
申请号 :
CN202210015999.1
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2019-05-27
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
江丽蔡宏于超毛慧
申请人 :
杭州海康威视数字技术股份有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市滨江区阡陌路555号
代理机构 :
北京三高永信知识产权代理有限责任公司
代理人 :
王静
优先权 :
CN202210015999.1
主分类号 :
G02B27/01
IPC分类号 :
G02B27/01  G02B27/28  G02B5/32  G03F7/20  G03H1/04  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/01
加盖显示器
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 27/01
申请日 : 20190527
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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