投射镜头、投射曝光设备和投射曝光方法
授权
摘要
本发明涉及一种折射投射镜头(PO)，该折射投射镜头(PO)使用汞蒸气灯(LS)的电磁辐射将布置在投射镜头的物平面(OS)中的图案再现到投射镜头的像平面(IS)中，所述折射投射镜头具有：多个透镜元件，该多个透镜元件沿光轴(AX)安装在物平面(OS)和像平面(IS)之间，并且设计为使安装在物平面中的图案(PAT)使用透镜以缩小的成像比例可以再现到像平面中。该镜头包括由具有相对较低阿贝数的第一材料构成的第一透镜和由具有相较于第一材料更高阿贝数的第二材料构成的第二透镜。投射镜头仅包括以下透镜组：在物平面(OS)之后具有正光学能力的第一透镜组(LG1)；在第一透镜组(LG1)之后具有负光学能力的第二透镜组(LG2)，以用于在物平面和像平面之间生成大约区域最小边缘束高度的大小；第三透镜组(LG3)，该第三透镜组(LG3)在第二透镜组与适合于安装孔径光阑(AS)的光圈位置(BP)之间
基本信息
专利标题 ：
投射镜头、投射曝光设备和投射曝光方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110998447A
申请号 ：
CN201880034844.4
公开（公告）日 ：
2020-04-10
申请日 ：
2018-03-29
授权号 ：
CN110998447B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
A.埃普勒D.谢弗
申请人 ：
卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请人地址 ：
德国上科亨
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
王蕊瑞
优先权 ：
CN201880034844.4
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G02B27/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2020-05-05 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20180329
申请日 : 20180329
2020-04-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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