一种曝光设备
授权
摘要

本实用新型提供了一种曝光设备,包括用于放置被曝光物体的曝光平台和可相对曝光平台运动的曝光器,曝光器相对曝光平台的运动方向包括曝光方向和步进方向;曝光器沿曝光方向运动时,对被曝光物体进行曝光,曝光器沿步进方向运动时,改变被曝光物体上的曝光区域;曝光器包括至少一组曝光头组,曝光头组包括至少两个沿步进方向同中心布置的曝光头,曝光头包括用于发射光线的光源和用于聚焦光线的镜头。区别于现有技术,在沿曝光器的步进方向上布置至少两个曝光头,使得曝光器在沿曝光方向运动时可以有至少两个曝光头同时进行曝光,提高了曝光的效率。

基本信息
专利标题 :
一种曝光设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021755590.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-20
授权号 :
CN212647263U
授权日 :
2021-03-02
发明人 :
吴景舟陈国军马骏马迪
申请人 :
江苏迪盛智能科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市吴中区木渎镇金山南路868号锐晶大厦2号楼2层
代理机构 :
苏州集律知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
安纪平
优先权 :
CN202021755590.6
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-03-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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