包含气体冲洗系统的辐射曝光装置

发明专利申请公布后的驳回

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摘要

一种设有辐射源、构图结构、投影系统、基板和用于将气体从投影系统和基板之间的区域排出的气体冲洗系统的曝光装置。

基本信息

专利标题：

包含气体冲洗系统的辐射曝光装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1797220A

申请号：

CN200510138085.0

公开（公告）日：

2006-07-05

申请日：

2005-12-05

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

K·西蒙E·范登布林克G·J·J·凯塞斯A·H·H·范迪克H·A·M·巴詹斯

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维尔德霍芬

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

肖春京

优先权：

CN200510138085.0

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 H01L21/027

相关图片

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2010-08-04 ：

发明专利申请公布后的驳回

号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101003709182
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2005101380850
公开日 : 20060705

2006-08-30 ：

实质审查的生效

2006-07-05 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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1、

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