曝光时间可调的脉冲X射线辐射场系统及方法
实质审查的生效
摘要
本发明提供了一种曝光时间可调的脉冲X射线辐射场系统，包括：操作台、控制组件、高压发生器、X射线管组件；操作台和控制组件相连接，高压发生器的一端和控制组件相连接，高压发生器的另一端和X射线管组件相连；操作台，用于对控制组件发出调整高压发生器参数的指令；指令包括X射线管组件目标参数值；控制组件，对X射线管组件目标参数值进行格式转换，转换为协议规定格式的X射线管组件目标参数值；高压发生器，根据X射线管组件目标参数值，确定X射线管组件出射的频率和时间；X射线管组件，根据出射的频率和时间，出射X射线。
基本信息
专利标题 ：
曝光时间可调的脉冲X射线辐射场系统及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114415228A
申请号 ：
CN202210049527.8
公开（公告）日 ：
2022-04-29
申请日 ：
2022-01-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李德红张健张晓乐黄建微成建波张璇刘川凤
申请人 ：
中国计量科学研究院
申请人地址 ：
北京市朝阳区北三环东路18号
代理机构 ：
北京慧诚智道知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
高梅
优先权 ：
CN202210049527.8
主分类号 ：
G01T7/00
IPC分类号 ：
G01T7/00 H01J35/10
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01T
核辐射或X射线辐射的测量
G01T7/00
辐射计量仪器的附件
法律状态
2022-05-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01T 7/00
申请日 : 20220117
申请日 : 20220117
2022-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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