曝光平台和系统

授权

摘要

本实用新型涉及一种曝光平台和系统，所述曝光平台应用于曝光系统，所述的曝光平台包括：载物台和降温通道，载物台用于放置待执行曝光工序的玻璃样品；降温通道，设置在所述载物台的底部，用于执行曝光工序时通入冷却水对所述载物台进行降温处理。本申请通过在放置玻璃样品的载物台上设置降温通道，在执行曝光工序时，若载物台被紫外线照射时环境温度高于温度阈值，则在降温通道通入冷却水给载物台降温，从而为曝光工序提供恒定的曝光温度，提升了曝光效果的同时保证了成品率。

基本信息

专利标题：

曝光平台和系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020081809.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-01-15

授权号：

CN211698584U

授权日：

2020-10-16

发明人：

易伟华张迅郑芳平徐彬彬洪华俊

申请人：

江西沃格光电股份有限公司

申请人地址：

江西省新余市高新技术产业开发区西城大道沃格工业园

代理机构：

广州华进联合专利商标代理有限公司

代理人：

熊文杰

优先权：

CN202020081809.2

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20