曝光机的平台模组

专利权的终止

摘要

一种曝光机的平台模组，包含一下平台、一上平台、数个定位凹穴以及数个定位销组。定位凹穴设置于上平台。定位销组设置于下平台并且分别对应所述定位凹穴，每一定位销组包括一销件及一线性衬套。销件可弹性的相对于下平台上下位移并且具有一往上凸出下平台的凸出端，凸出端用以当上平台邻近下平台时伸入定位凹穴内。线性衬套套设于销件，用以导引销件相对于下平台上下位移。通过线性衬套的设置，使销件只有上下方向的活动自由度，使上平台与下平台的定位可更确实。

基本信息

专利标题：

曝光机的平台模组

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820131976.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-08-22

授权号：

CN201269969Y

授权日：

2009-07-08

发明人：

简泰宽

申请人：

志圣工业股份有限公司

申请人地址：

中国台湾台北县

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

李树明

优先权：

CN200820131976.2

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 H05K3/00