双层曝光结构的显示电浆模组
授权
摘要

本实用新型涉及电子显示领域,具体涉及一种双层曝光结构的显示电浆模组。其中,双层曝光结构的显示电浆模组包括:基板,基板包括显示区和包围在所述显示区外周的衬垫框区;下电极,所述下电极设于所述显示区中,所述下电极包括若干成阵列式排布的像素下电极;上电极,所述上电极设于所述下电极上;显示电浆,所述显示电浆填充在所述上电极和下电极之间;电浆阻离框,所述电浆阻离框设于显示电浆中,所述电浆阻离框包括若干单元框,每个所述单元框对应框在所述像素下电极的外周,所述单元框上设有支撑柱;衬垫边框,所述衬垫边框设在所述衬垫框区中,所述衬垫边框的下端与所述基板耦合密封,上端与上电极耦合密封。本实用新型能够提高显示效果。

基本信息
专利标题 :
双层曝光结构的显示电浆模组
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922308340.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-20
授权号 :
CN211348944U
授权日 :
2020-08-25
发明人 :
包进陈山唐振兴许俊
申请人 :
无锡威峰科技股份有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市新吴区综合保税区J1-3
代理机构 :
无锡市大为专利商标事务所(普通合伙)
代理人 :
曹祖良
优先权 :
CN201922308340.1
主分类号 :
G02F1/167
IPC分类号 :
G02F1/167  G02F1/16753  G02F1/1679  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/167
••••基于电泳的
法律状态
2020-08-25 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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