一种曝光平台
授权
摘要

本实用新型涉及一种曝光平台,具有支撑底座及组装在支撑底座上的上铬板固定框、下铬板固定框及CCD对位机构,上铬板固定框上组装上铬板,下铬板固定框上组装下铬板,待曝光的线路板放置在上铬板固定框和下铬板固定框之间进行曝光,CCD对位机构用于实现待曝光的线路板与上铬板和下铬板的对位,上铬板固定框和下铬板固定框之间设有密封真空贴附装置,密封真空贴附装置用于将待曝光的线路板在上铬板固定框和下铬板固定框之间,在真空状态下保持与上铬板和下铬板的稳定贴附对位进行曝光。本实用新型可以保证待曝光的线路板在真空环境吸附下即使遇到震动也不会发生变形及偏移,继续保持精确的对位状态,提升曝光生产效率及质量,加工精度更高。

基本信息
专利标题 :
一种曝光平台
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202121248062.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-06-05
授权号 :
CN216248757U
授权日 :
2022-04-08
发明人 :
余燕青杜志航
申请人 :
东莞市友辉光电科技有限公司
申请人地址 :
广东省东莞市万江街道拔蛟窝创业路1号3栋
代理机构 :
东莞市创益专利事务所
代理人 :
许彬
优先权 :
CN202121248062.6
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  G03F9/00  H05K13/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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