一种曝光机应用模组
授权
摘要
一种曝光机应用模组，包括光源模组和散热模组，还包括聚光器模组，所述光源模组包括基板和若干设在基板上的紫外LED灯珠，所述聚光器模组包括导光筒组和透镜组，所述导光筒组包括若干导光筒，所述导光筒与紫外LED灯珠一一对应，且紫外LED灯珠设在导光筒的入射端，所述透镜组包括若干透镜，所述透镜与导光筒一一对应，且透镜设在导光筒的出射端。本实用新型原理：利用导光筒和透镜对紫外LED灯珠的光线进行聚光后射出，出光角度更小，接近平行光，可以使曝光精度更高，辐射强度高；而且紫外LED灯珠可高度集中在基板上，模组整体结构紧凑，体积更小。
基本信息
专利标题 ：
一种曝光机应用模组
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123391808.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-30
授权号 ：
CN216718902U
授权日 ：
2022-06-10
发明人 ：
石超杨振东李成明
申请人 ：
广州市波电电子科技有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市花都区花东镇先科一路1号2幢4楼
代理机构 ：
广州中浚雄杰知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
李肇伟
优先权 ：
CN202123391808.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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