在微影曝光制程中产生光的方法及光源
授权
摘要
本公开部分实施例提供一种在一微影曝光制程中产生光的方法及光源。上述方法包括利用一燃料标靶产生器产生多个标靶。上述方法还包括测量标靶的一者通过在一移动路径上的两个检测位置的一时间。上述方法也包括利用一激光产生器激发一标靶，以产生发出光的等离子体。另外，上述方法包括当所测量的时间相异于一既定数值时，根据所测量的时间，调整燃料标靶产生器或激光产生器的至少一参数。
基本信息
专利标题 ：
在微影曝光制程中产生光的方法及光源
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109799683A
申请号 ：
CN201810987706.X
公开（公告）日 ：
2019-05-24
申请日 ：
2018-08-28
授权号 ：
CN109799683B
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
谢劼简上杰许峻嘉刘柏村傅中其陈立锐郑博中
申请人 ：
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹市
代理机构 ：
隆天知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄艳
优先权 ：
CN201810987706.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-03 ：
授权
2019-06-18 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20180828
申请日 : 20180828
2019-05-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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