本发明是有关于一种浸没式微影设备及制程。适用于半导体制造程序之中的浸没式微影系统，其提供了一对着晶圆表面移动的镜头组件，并包括了一与镜头组件组装在一起，顺着镜头组件移动的喷嘴及排水组件。喷嘴与排水组件可被环绕配置于镜头周围，并且彼此相对，或者可提供一包括复数个交替配置的可选择性喷嘴及排水设备的环圈，环绕于镜头周围，其中喷嘴及排水组件是可围绕着镜头作转动的。正在进行图刻程序的晶圆至少会有一部份被沉浸于喷嘴组件所提供的液体中，而液流方向可经由操作喷嘴与排水组件来加以控制。可将液流方向指向外侧，如此有助于减轻微粒子污染现象。