浸没基体、浸没基体的应用和浸没设备
授权
摘要
本发明涉及浸没基体(5)，其被构造用于调整光学装置的分界面处的光学性能，所述浸没基体在浸没基体(5)的材料(6)中具有多孔结构，所述多孔结构具有孔(7)和/或纳米孔(8)，所述孔(7)具有选自大于20nm至200μm的范围的至少一个孔径，其中，纳米孔(8)具有选自0.5nm至20nm范围的至少一个平均孔径，所述多孔结构具有选自0.1‑100MPa范围内的弹性模量E。本发明还涉及浸没基体(5)的应用、具有浸没基体(5)的装置以及浸没设备。
基本信息
专利标题 ：
浸没基体、浸没基体的应用和浸没设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109557654A
申请号 ：
CN201811123379.X
公开（公告）日 ：
2019-04-02
申请日 ：
2018-09-26
授权号 ：
CN109557654B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
T.奥尔特T.卡尔克布伦纳
申请人 ：
卡尔蔡司显微镜有限责任公司
申请人地址 ：
德国耶拿
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
侯宇
优先权 ：
CN201811123379.X
主分类号 ：
G02B21/33
IPC分类号 ：
G02B21/33 G02B21/34 G01N33/48
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B21/00
显微镜
G02B21/33
浸润油
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2020-09-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 21/33
申请日 : 20180926
申请日 : 20180926
2019-04-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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