一种激光直写图形的补偿方法和激光曝光机
实质审查的生效
摘要

本发明提供了一种激光直写图形的补偿方法包括,第一步:将激光直写图形显影得到的图形尺寸与原始图形尺寸相比较分别确定第一方向和第二方向的补偿值;第二步:根据第一方向的补偿值,将原始图形在第一方向上的外侧轮廓进行第一次补偿得到第一补偿图形;将所述第一补偿图形栅格化,得到第一栅格图形;第三步:根据第二方向的补偿值,将所述第一栅格图形的外侧轮廓在第二方向上进行第二次补偿,获得第二栅格图形;第四步:将第二栅格图形上载到DMD数字微镜器件上,投射到基底上进行曝光。本发明还提供了一种采用本发明的补偿方法的激光曝光机。基于DMD数字微镜器件像素级调整,节约人工和成本,过程简洁,易于操作。

基本信息
专利标题 :
一种激光直写图形的补偿方法和激光曝光机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114509918A
申请号 :
CN202011290862.4
公开(公告)日 :
2022-05-17
申请日 :
2020-11-17
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
赵涛陈国军吴景舟马迪
申请人 :
江苏迪盛智能科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市吴中区木渎镇金山南路868号锐晶大厦2号楼2层
代理机构 :
江苏坤象律师事务所
代理人 :
赵新民
优先权 :
CN202011290862.4
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20201117
2022-05-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332