一种基于规则的曝光补偿方法
授权
摘要
一种基于规则的曝光补偿方法，包括以下步骤：1）确定需要曝光补偿的版图设计单元；2）确定版图设计单元中的工艺层；3）设定关键尺寸规则；4）设置补偿图形的bias值，并创建补偿图形；5）倒角处理。本发明将版图工程师进行曝光补偿的过程自动化，提供设计的准确度并极大提升版图绘制效率。
基本信息
专利标题 ：
一种基于规则的曝光补偿方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111104773A
申请号 ：
CN201911263816.2
公开（公告）日 ：
2020-05-05
申请日 ：
2019-12-11
授权号 ：
CN111104773B
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
刘东杨祖声刘伟平陆涛涛
申请人 ：
北京华大九天软件有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区利泽中二路2号A座2层
代理机构 ：
北京德崇智捷知识产权代理有限公司
代理人 ：
王金双
优先权 ：
CN201911263816.2
主分类号 ：
G06F30/392
IPC分类号 ：
G06F30/392 G03F1/70
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/392
平面规划或布局，例如,分区或放置
法律状态
2022-05-24 ：
授权
2021-04-23 ：
著录事项变更
IPC(主分类) : G06F 30/392
变更事项 : 申请人
变更前 : 北京华大九天软件有限公司
变更后 : 北京华大九天科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 100102 北京市朝阳区利泽中二路2号A座2层
变更后 : 100102 北京市朝阳区利泽中二路2号A座2层
变更事项 : 申请人
变更前 : 北京华大九天软件有限公司
变更后 : 北京华大九天科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 100102 北京市朝阳区利泽中二路2号A座2层
变更后 : 100102 北京市朝阳区利泽中二路2号A座2层
2020-05-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06F 30/392
申请日 : 20191211
申请日 : 20191211
2020-05-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
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