图形曝光方法及装置
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明的目的是提供一种通过方向性高的照明光可高效进行无掩模曝光的无掩模曝光方法及无掩模曝光装置，同时，提供一种可使阻焊膜的曝光效率提高的无掩模曝光方法及无掩模曝光装置。设有出射波长为405nm的激光(1a)的蓝紫半导体激光器(12A)和出射波长为375nm的激光(1b)的紫外线半导体激光器(12B)，使激光(1a)、(1b)的光轴同轴，照射到基板(8)上。这时，用激光(1a)、(1b)多次照射基板(8)上的同一地点，使激光(1a)、(1b)的强度偏差平均化。
基本信息
专利标题 ：
图形曝光方法及装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1837962A
申请号 ：
CN200610008345.7
公开（公告）日 ：
2006-09-27
申请日 ：
2006-02-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
押田良忠内藤芳达铃木光弘山口刚丸山重信
申请人 ：
日立比亚机械股份有限公司
申请人地址 ：
日本神奈川
代理机构 ：
北京银龙知识产权代理有限公司
代理人 ：
张敬强
优先权 ：
CN200610008345.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2011-04-20 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101081088642
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2006100083457
公开日 : 20060927
号牌文件序号 : 101081088642
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2006100083457
公开日 : 20060927
2008-04-30 ：
实质审查的生效
2006-09-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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