曝光机曝光基台的回位机构
专利权的终止
摘要

本实用新型是有关于一种曝光机曝光基台的回位机构,利用设置于曝光平台的上导引块的斜导引面、与组设于动力源的下导引块的另一斜导引面的互相对应嵌合,即可轻易地完成自动回位功能,如此可缩短曝光作业的时间与并提高产能。此外,借由缓冲件的设计,可缓冲曝光平台回落的冲击力,亦即曝光平台不会因震动而产生位移误差,且可以避免曝光平台因震动而发生损害的问题。再者,利用上述的回位机构,亦可降低成本,相对可增加产品的竞争力。

基本信息
专利标题 :
曝光机曝光基台的回位机构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820003790.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-02-19
授权号 :
CN201170838Y
授权日 :
2008-12-24
发明人 :
张鸿明
申请人 :
川宝科技股份有限公司
申请人地址 :
中国台湾桃园县
代理机构 :
北京中原华和知识产权代理有限责任公司
代理人 :
寿宁
优先权 :
CN200820003790.9
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  H05K3/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2018-03-16 :
专利权的终止
专利权有效期届满IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20080219
授权公告日 : 20081224
2008-12-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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