用于投影曝光装置中的位置对准系统以及对准方法

发明专利申请公布后的驳回

摘要

本发明公开了一种用于投影曝光装置中的位置对准系统以及对准方法，其特征在于：在掩模上设置有通光窗口，位置对准装置所反射出的光线可通过此通光窗口进入光学投影系统；对准过程包括标记摄影装置与承片台基准标记对准，掩模标记与标记摄影装置对准，曝光对象标记与标记摄影装置对准，及相应建立的相对位置关系。其有益效果是，通光窗口的设置、掩模标记对准、承片台基准标记对准以及曝光对象标记对准采用同一套位置对准装置，大大简化了掩模和曝光对象的位置对准装置的结构、减少了位置对准的误差环节，从而直接地降低了成本。另外，上述位置对准装置都处于承版台上方，便于和其它分系统的集成与测试。

基本信息

专利标题：

用于投影曝光装置中的位置对准系统以及对准方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1808287A

申请号：

CN200610023683.8

公开（公告）日：

2006-07-26

申请日：

2006-01-26

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

王鹏程徐兵陈勇辉

申请人：

上海微电子装备有限公司

申请人地址：

201203上海市张江高科技园区张东路1525号

代理机构：

上海智信专利代理有限公司

代理人：

王洁

优先权：

CN200610023683.8

主分类号：

G03F9/00

IPC分类号：

G03F9/00 G03F7/20