一种曝光灯及光刻机
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摘要
本实用新型公开了一种曝光灯及光刻机。所述曝光灯包括，箱体，包括容纳腔及出光口；光源部，容纳并设置于容纳腔，所述光源部产生的光源能够沿出光口照射出；所述容纳腔内依次设置有第一凸透镜部、科勒矩阵透镜组和第二凸透镜部；所述光源部发出的光线依次经过第一凸透镜部、科勒矩阵透镜组和第二凸透镜部最终从出光口照射出。
基本信息
专利标题 ：
一种曝光灯及光刻机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921565213.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-20
授权号 ：
CN210428089U
授权日 ：
2020-04-28
发明人 ：
王胜利杨波
申请人 ：
矽电半导体设备（深圳）股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙岗区龙城街道黄阁坑社区龙城工业园3号厂房三楼东区、五楼中西区
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921565213.3
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-04-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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